用于各种材质光学玻璃的精密抛光，粉体主成分CeO₂＞99%、D50=0.1μm、D100＜1.5μm。

开发了组织细小均匀、致密度高的金属钼靶材，可作为磁控溅射用靶材用作电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料

开发了纯度≥4N，密度≥20g/cm³的铼粒，可用于制造发动机叶片、航空航天部件和其他超高温领域的铼元素添加剂